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电镀电铸系统 ELECTROFORMING UNIT µGalv
电镀电铸系统uGalv是一种先进的电镀工具,适用于微机电系统、半导体、光学和太阳能行业的各种电镀工艺。设备可以按照客户工艺的定制化,可以实现工业化生产和研发的各种要求。
我们在德国的应用实验室,拥有处理各种实验和量测所需的各种工具,凭借和德国知名实验室的共同合作,可以提供各种工艺的解决方案。
技术特点
晶圆尺寸: ≤ 300mm
应用范围: 构建垫盘或触点、再分布层RDL、柱子、
TSV填充、MEMS、晶圆芯片封装(WCSP)
电镀模块
· 由工艺池和带有过滤回路的储罐组成的溢流工艺
· 工艺槽容量为客户定制
· 电镀金属可以包括镍,铜,金,银,铟等
· 电镀合金包括镍铁,镍钨,镍铬,镍锡合金等
· 化学镀可以实现镍,金,锡铅等
· 工艺方式可以实现挂镀,喷镀以及45度斜角浸泡(工艺片旋转)
· 电镀电源可实现正向和反向脉冲电镀,可选的复杂波形,如正玄波、三角形等
清洗模块
· 标准:360度溢流清洗,
· 可选:QDR, SRD
配置选项
· 自动清洗(半自动、烘干)
· 可集成预处理后处理单元
· 层流单元集成
· 组成通风柜
设备设计结构
· 所有工艺单元都放置在前面操作区。
· 所有电气控制部分都放置在设备后面的维修区域,做到干湿分离。
· 去离子水枪和氮气枪装均配在操作区。
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